PECVD：等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積，指借助微波或者射頻波使腔室內(nèi)的反應(yīng)氣體分子電離，形成的高化學(xué)活性等離子體在基片表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，沉積成膜。
PECVD根據(jù)等離子發(fā)射源的動(dòng)作情況可分為動(dòng)態(tài)和靜態(tài)。
根據(jù)設(shè)備結(jié)構(gòu)可分為鏈?zhǔn)?、團(tuán)簇式和U型。

根據(jù)射頻頻率的不同可分為RF-PECVD(13.56MHz)和VHF-PECVD（30-300MHz）

HJT設(shè)備：導(dǎo)質(zhì)結(jié)電池設(shè)備

PVD：物理氣相沉積（(Physical Vapour Deposition)，表示在真空條件下，采用物理方法，將材料源——固體或液體表面氣化成氣態(tài)原子、分子或部分電離成離子，并通過低壓氣體（或等離子體）過程，在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù)。 

CVD：化學(xué)氣相沉積（Chemical Vapor Deposition）化學(xué)氣相沉積乃是通過化學(xué)反應(yīng)的方式，利用加熱、等離子激勵(lì)或光輻射等各種能源，在反應(yīng)器內(nèi)使氣態(tài)或蒸汽狀態(tài)的化學(xué)物質(zhì)在氣相或氣固界面上經(jīng)化學(xué)反應(yīng)形成固態(tài)沉積物的技術(shù)。•簡(jiǎn)單來說就是：兩種或兩種以上的氣態(tài)原材料導(dǎo)入到一個(gè)反應(yīng)室內(nèi),然后他們相互之間發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，形成一種新的材料，沉積到基片表面上。•從氣相中析出的固體的形態(tài)主要有下列幾種：在固體表面上生成薄膜、晶須和晶粒，在氣體中生成粒子。

深圳市科銳詩汀科技有限公司在真空行業(yè)多年，致力于做專業(yè)事，公司有以下業(yè)務(wù)：
一、真空獲得產(chǎn)品有：
    1、美國(guó)安捷倫（Agilent Technologies)的旋片泵、干泵、羅茨泵、分子泵、分子泵機(jī)組、擴(kuò)散泵、離子泵。
    2、德國(guó)普發(fā)（PFEIFFER）的旋片泵、隔膜泵、螺桿泵、泵組、羅茨泵、分子泵、分子泵機(jī)組。

    3、英國(guó)愛德華（EDWARDS）真空泵

    4、德國(guó)萊寶（LEYBOLD）真空泵

二、真空測(cè)量產(chǎn)品有：

    1、瑞士英?？担?span>INFICON）真空計(jì)及控制器

       CDG電容膜片真空計(jì)（CDG020D、CDG025D、CDG045D、CDG100D、CDG160D、CDG200D、CDG025-C)

       BAG402 B-A型真空計(jì)

       BPG400 BPG402-S B-A型皮拉尼真空計(jì)

       HPG400高壓強(qiáng)熱電離型皮拉尼真空計(jì)

       BCG450 B-A型皮拉尼電容膜片真空計(jì)

       PSG500/-S PSG502-S PSG510-S PSG512-S PSG550 PSG552 PSG554皮拉尼標(biāo)準(zhǔn)真空計(jì)

       PCG550 PCG552 PCG554皮拉尼電容膜片真空計(jì)、

       PEG100潘寧真空計(jì)、

       MAG500/504 MPG500/504 MPG400/401反磁控/反磁控皮拉尼真空計(jì)、

       VGC501 VGC502 VGC503 PGD400真空顯示控制器

       PGE050 VGC031 BAG050 BAG051 BAG052 BAG053 VGC083A/VGC083B被動(dòng)型真空計(jì)和控制器。

    2、美國(guó)MKS Granville-Phillips真空計(jì)及控制器

      390 Micro-lon ATM模塊

      392 Micro-lon Plus模塊

      356 Micro-lon Plus模塊

      385 Convectron ATM模塊 復(fù)合式模塊化真空計(jì)、

      275 Mini-Convectron模塊模擬量輸出型

      275 Mini-Convectron模塊DeviceNet型

      354 Micro-lon模塊

      347 Stabil-lon模塊 模塊化一體式真空計(jì)、

      307BA規(guī)控制器

      358Micro-lon規(guī)管控制器

      370 Stabil-lon規(guī)管控制器

      475 Convectron規(guī)管控制器等系列真空規(guī)管控制器、

      274 BA電離規(guī)。

三、真空檢測(cè)產(chǎn)品：

    1、瑞士英?？担?span>INFICON）LDS2010模塊化系統(tǒng)檢漏儀（通用于集成于工業(yè)的漏測(cè)試系統(tǒng)）、Moudul1000模塊化氦檢漏儀（集成于中等自動(dòng)化的檢漏臺(tái)）、UL1000 UL1000Fab UL5000氦檢漏儀、Protec p3000氦吸槍檢漏儀。

    2、瑞士英?？担?span>INFICON）殘余氣體分析儀（RGA）和質(zhì)譜儀

       Transpector CPM3緊湊型過程監(jiān)控器

       Transpector  SPS 殘余氣體分析儀
       Transpector  XPR3+ 殘余氣體分析儀

       Transpector  MPH 殘余氣體分析儀

       Transpector  MPS 殘余氣體分析儀

       QMG 700 分析質(zhì)譜儀

四、真空輔助產(chǎn)品有：
     1、中國(guó)臺(tái)灣日揚(yáng)（HTC）真空法蘭、波紋管、卡扣、中心圈、轉(zhuǎn)接頭、真空角閥、全金屬角閥、真空蝶閥、真空插板閥。
     2、瑞士英?？担?span>INFICON）真空連接件、視窗、真空饋入件。

     3、瑞士英福康（INFICON）薄膜沉積控制產(chǎn)品

        Cygnus 2 膜厚控制儀（OLED應(yīng)用）

        IC6 膜厚控制儀（光學(xué)應(yīng)用）

        XTC/3膜厚控制儀

        SQC-310系列膜厚控制儀

        IQM-233膜厚控制儀插件板

        SQM160多層膜速率/膜厚監(jiān)測(cè)儀

        STM-2XM 2通道速率/膜厚監(jiān)測(cè)儀

        STM-3 可擴(kuò)展的薄膜膜厚/速率監(jiān)測(cè)儀

       STM-2 USB薄膜膜厚/速率鍍層監(jiān)測(cè)儀

   4、美國(guó)MKS 質(zhì)量流量控制器 1179C GE50A。

   5、瑞士福特林（Vogtlin)

      red-y smart 智能型系列 熱式質(zhì)量流量計(jì)和控制器（精確可靠）
      red-y compact緊湊型系列 熱式質(zhì)量流量計(jì)（便捷的數(shù)字化設(shè)備）

      red-y 系統(tǒng) （OEM應(yīng)用 實(shí)現(xiàn)流量測(cè)量的要求）

      Q-Flow 浮子流量計(jì)
      V-100 浮子流量計(jì)

      M-Flow 高精度調(diào)節(jié)閥

五、真空鍍膜設(shè)備

    SVACFilmLab-B箱式鍍膜機(jī)（可集成電子束、熱蒸發(fā)、磁控濺射等多個(gè)沉積模塊）

    SVAC-FilmLab-T臺(tái)式鍍膜設(shè)備（可集成熱蒸發(fā)、磁控濺射等沉積模塊）

    SVAC-FimLab-G帶手套箱式鍍膜設(shè)備（圓形蒸發(fā)源（金屬/有機(jī)交替分布）/束源爐）（鍍鈣鈦礦）

    SVAC-FimLab-C束線多腔鍍膜設(shè)備

    SVAC-UHVLab-MT材料吸氣率測(cè)試設(shè)備

    SVAC-UHVLab-IMT絕熱材料放氣率測(cè)試設(shè)備

    SVAC-PStat-80高真空分子泵機(jī)組

    SVAC-CryoLab低溫真空系統(tǒng)

    SVAC-CryoLab-TC低溫絕熱材料熱導(dǎo)率試驗(yàn)臺(tái)

    CryoLab-OSt4低溫恒溫器

    SVAC-Sub 有機(jī)小分子升華提純系統(tǒng)（OLED材料）